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CIF專(zhuān)注材料表面處理技術(shù),為客戶(hù)提供專(zhuān)業(yè)清洗、去膠、刻蝕、涂層等方面儀器裝備和應用工藝解決方案!等離子表面處理儀是利用等離子體技術(shù)對材料表面進(jìn)行改性的先進(jìn)設備。等離子體,作為物質(zhì)的第四種狀態(tài),它由高速運動(dòng)的電子、激活狀態(tài)的中性原子、離子和自由基組成,在特定的壓力和能量供給條件下由氣體轉化而來(lái)。
等離子灰化儀,又稱(chēng)等離子體灰化設備或等離子體灰化爐,是一種利用等離子體技術(shù)將樣品中的有機物質(zhì)進(jìn)行高溫氧化分解,從而將其轉化為無(wú)機灰分的設備。其核心原理是通過(guò)產(chǎn)生高能等離子體,可以在短時(shí)間內將樣品加熱至超高溫度,實(shí)現樣品的快速灰化。
等離子去膠機的工作原理基于等離子體技術(shù),利用高能離子和電子的化學(xué)和物理作用來(lái)去除膠水或粘合劑殘留物。這種技術(shù)具有高效、無(wú)污染和無(wú)需使用化學(xué)溶劑的優(yōu)點(diǎn),因此被廣泛應用于電子制造、光學(xué)器件、航空航天和汽車(chē)行業(yè)等領(lǐng)域。
RIE反應離子刻蝕機(Reactive Ion Etching)是一種常用的微納加工設備,主要用于制備微細結構和納米器件。它通過(guò)將反應氣體引入真空室,并施加射頻功率和直流電場(chǎng),利用離子轟擊和化學(xué)反應的方式對材料表面進(jìn)行刻蝕。真空室可用于創(chuàng )建和維持高真空環(huán)境。真空室通常由高真空室和低真空室組成,通過(guò)真空泵系統實(shí)現氣體的排除。
在如今注重衛生和清潔的社會(huì ),紫外臭氧清洗機作為,正在迅速受到廣泛關(guān)注,該設備結合了紫外線(xiàn)和臭氧的特性,提供了一種環(huán)保高效的清潔解決方案。利用紫外線(xiàn)和臭氧的協(xié)同作用,實(shí)現對空氣和表面的殺菌和清潔。紫外線(xiàn)具有較強的紫外光線(xiàn),可破壞細菌和病毒的DNA結構,導致其死亡和失去繁殖能力。臭氧則具有強氧化性,能夠快速氧化并分解有機物,從而達到清潔的效果。將紫外線(xiàn)和臭氧結合在一起,通過(guò)產(chǎn)生臭氧和釋放紫外線(xiàn),實(shí)現對空氣和物體表面的全方位清潔和殺菌。
電鏡等離子清洗機是一種用于電子顯微鏡(電鏡)樣品表面清洗和去除有機污染物的設備。通過(guò)在真空環(huán)境中產(chǎn)生等離子體,并將等離子體束聚焦到樣品表面。等離子體束中的離子具有高能量,當它們與樣品表面接觸時(shí),會(huì )發(fā)生離子撞擊和化學(xué)反應,從而去除表面的有機污染物和雜質(zhì)
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