CIF 推出的新一代科研型等離子清洗設備，合理的結構設計，優(yōu)化的腔體尺寸，使得處理樣品更大，適用范圍更廣。 產(chǎn)品性能穩定，操作簡(jiǎn)單方便，易維護。

CIF推出全新一代 CPC-G系列實(shí)驗室型等離子體清洗設備， 改變傳統等離子體清洗設備設計理念。具有較大的腔體尺寸和有效樣 品處理面積， 使用成本低， 性?xún)r(jià)比高.....

CIF推出全新一代 CPC-10系列實(shí)驗室型等離子體清洗設備， 改變傳統等離子體清洗設備設計理念。具有較大的腔體尺寸和有效樣品處理面積， 使用成本低， 性?xún)r(jià)比高.....

CIF 推出的中試生產(chǎn)型等離子清洗機是為研發(fā)型客戶(hù)和工業(yè)級客 戶(hù)而設計的等離子體表面處理設備。配置豐富， 且真空腔體里可分層， 適合大多數生產(chǎn)場(chǎng)景清洗，活化、刻.....

CIF 新推出 CPC-Auto 在線(xiàn)片式真空等離子清洗機具有成本較低、容易使用，維護乃保養費用低，環(huán)保等優(yōu)點(diǎn)。適用于芯片粘結工藝前、引線(xiàn)鍵合和覆晶封裝工藝前的.....

CIF 新推出 CAP-Auto 全自動(dòng)在線(xiàn)式大氣等離子清洗機采用單軸模組配合旋噴等離子組件，上下噴洗高度可調，組成一套等離子清洗系統，可實(shí)現對產(chǎn)品的等離子清洗.....

CIF 掃描電鏡（SEM）等離子清洗機采用遠程等離子清洗源 設計，清洗快速、高效、低轟擊損傷，主要用于 SEM 或 FIB 等腔 體內碳氫化合物的清洗。

CIF推出的CPA系列大氣等離子清洗機功率輸出穩定，抗干擾能力強，響應迅速，清洗效果穩定、持久、一致性好。

紫外臭氧清洗機（UVO），是一種簡(jiǎn)單，經(jīng)濟，快速高效的材料表面清洗設備，能快速去除大多數無(wú)機基材（比 如石英，硅片，金，鎳，鋁，砷化鎵，氧化鋁等）上的有機污染物.....

CIF推出VGB-P系列手套箱專(zhuān)用等離子清洗設備，優(yōu)化的腔體結構及合理的結構設計更適合手套箱內使用。安裝簡(jiǎn)單方便，性能穩定，實(shí)用性強，容易維護。