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      RIE反應離子刻蝕機

      所屬分類(lèi)： 等離子刻蝕機

      產(chǎn)品參數

      CIF推出RIE反應離子刻蝕機，采用RIE反應離子誘導激發(fā)方式，實(shí)現對材料表面各向異性的微結構刻蝕。特別適合于大學(xué)，科研院所、微電子、半導體企業(yè)實(shí)驗室進(jìn)行介質(zhì)刻蝕、硅刻蝕、金屬刻蝕等方面研究。使用成本低，性?xún)r(jià)比高，易維護，處理快速高效。適用于所有的基材及復雜的幾何構形進(jìn)行RIE反應離子刻蝕。
      屬性
      產(chǎn)品名稱(chēng)
      型號
      廠(chǎng)商性質(zhì)
      訪(fǎng)問(wèn)量
      更新時(shí)間
      詳情
      RIE反應離子刻蝕機
      RIE200/plus
      生產(chǎn)廠(chǎng)家
      230次
      2024-03-18

      產(chǎn)品詳情

         CIF 推出 RIE 反應離子刻蝕機，采用 RIE 反應離子誘導激發(fā)方式，實(shí)現對材料表面各向異性的微結構刻蝕。特別適合于大學(xué)、科研院所，微電子、半導體企業(yè)實(shí)驗室進(jìn)行介質(zhì)刻蝕、硅刻蝕、金屬刻蝕等方面研究。使用成本低，性?xún)r(jià)比高，易維護，處理快速高效。適用于所有的基材及復雜的幾何構形進(jìn)行 RIE 反應離子刻蝕。
      具體包括：
      ◆ 介電材料（SiO2、SiNx 等）
      ◆ 硅基材料（Si，a-Si，poly Si）
      ◆  III-V 材料（GaAs、InP、GaN 等）
      ◆ 濺射金屬（Au、Pt、Ti、Ta、W 等）
      ◆ 類(lèi)金剛石（DLC）
      應用領(lǐng)域：
      主要用于微電子芯片、太陽(yáng)能電池、生物芯片、顯示器、光學(xué)、通訊等領(lǐng)域的器件研發(fā)和制造。
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      產(chǎn)品特點(diǎn)

      ◆  7 寸彩色觸摸屏中英文互動(dòng)操作界面，自動(dòng)控制監測工藝參數狀態(tài)，20 個(gè)配方程序，工藝數據可存儲追溯。

      ◆  PLC 工控機控制整個(gè)清洗過(guò)程，手動(dòng)、自動(dòng)兩種工作模式。

      ◆  真空艙體、全真空管路系統采用 316 不銹鋼材質(zhì)，耐腐蝕無(wú)污染。

      ◆  采用防腐數字流量計，  實(shí)現對氣體輸入精準控制。標配雙路氣體輸送系統， 可選多氣路氣體輸送系統， 可輸入氧氣、氬氣、 氮氣、四氟化碳、氫氣或混合氣等氣體。

      ◆  采用花灑式多孔進(jìn)氣方式，改變單孔進(jìn)氣不均勻問(wèn)題。

      ◆  HEPA 高效過(guò)濾，氣體返填吹掃，防止二次污染。

      ◆  符合人體功能學(xué)的 60 度傾角操作界面設計，操作方便，界面友好。

      ◆  采用頂置真空艙，上開(kāi)蓋設計，下壓式鉸鏈開(kāi)關(guān)方式。

      ◆  上置式 360 度水平取放樣品設計，符合人體功能學(xué)，操作更方便。

      ◆  有效處理面積大，可處理最大直徑 154mm 晶元硅片。

      ◆  安全保護，艙門(mén)打開(kāi)，自動(dòng)關(guān)閉電源，機器運行、停止提示。


      推薦產(chǎn)品
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